[Modi-ctionary]在道路上比22B還稀有的Impreza－R30 WRC
#阿B博：
假如你也和我一樣是位不折不扣的Subie，也對Boxer-Engine特殊的「Rumble Sound」情有獨鍾，那麼你對SUBARU Impreza車系當中的22B STI一定不陌生，當年為了慶祝SUBARU成立40週年和連續第三次獲得WRC製造商稱號，SUBARU製造了424輛Impreza 22B STI，其中400輛留在日本當地販售，相比當年Ferrari F40則是製造了1300多輛，而這樣的稀有度加上與WRC工廠賽車有著近乎一模一樣配置的市售版街車設定，也造就了22B在Subie們心中接近神一般的地位。
然而，今天的主角並非這位擁有著耀眼光芒的巨星，而是一位地位更特殊的存在，曾經陪伴著那些WRC選手們征戰沙場的英雄，代號R30的WRC工廠賽車。
車身的銘牌上標示著這輛R30由Prodrive在1998年的第31週被打造出來，並且在2000年至2001年間參加了15場比賽，拿下了13次分站冠軍，這位戰功彪炳的大將在2002年至2007年都被保存在愛爾蘭，並且披上了紅色塗裝的戰袍，直到再次出現在則是在2009年由荷蘭車手Paul Allerts所保存，車體塗裝也由過去的紅色塗裝變成了銀色塗裝，並且在歐洲當地區域賽事征戰了整整一年後才退役。這輛R30 WRC在1998年至2010年之間開始了56項賽事，直到最後這輛車回到了祖國 — 「日本」。
現任車主是一位名叫「松下淳彌」的SUBARU鐵粉，雖然已經擁有了22B及多輛SUBARU，但對於他來說能夠擁有這輛WRC CAR並且實現在一般道路駕駛的夢想完全是不同層級的體驗，更是讓這輛R30有了完美的退休生活。
當然，為了符合日本當地的法規以及讓這輛曾經的WRC工廠賽車成為更適合日常使用的夥伴，松下淳彌選擇S204身上那具經過特殊製程的EJ20作為他復活的心臟，同時換上了S204上耐用度極高的六速手排，並保留了Prodrive當年製造的液壓手煞車拉桿。
相信有在看WRC的車迷們一定都曾幻想著自己能擁有一台接近WRC工廠賽車的市售車，更不用提能直接擁有一台「真正的」WRC賽車是一件多麽夢幻級別的事情，而松下淳彌也達成了許多車迷們一輩子的夢想，只可惜不管是R30 WRC又或是22B，在台灣應該是沒機會一睹他們在道路上奔馳的風采了。
照片&原文出處:
http://www.speedhunters.com/2020/01/even-better-than-the-real-thing-2/
#Subaru #Impreza #WRX #STI
sti 製程 在 [心得] 半導體黃光製程工作內容分享- 精華區Tech_Job 的推薦與評價
(一) 製程概觀
參考書籍: Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology by Xiao
半導體製程主要分六個module, 分別是: 微影 (lithography) , 蝕刻 (etching) ,
薄膜 (thin film), 擴散 (diffusion), 離子植入 (ion implant),
與 化學機械研磨 (chemical mechanical polishing).
可以將電晶體的製程想成蓋房子,首先製作STI (shallow trench isolation)區分
發揮電性的silocon與絕緣的silicon oxide.植入離子產生N/P well.製作poly
gate當做電晶體的開關,接著製作contact,填入金屬稱為plug,一層層的metal line
蓋上去成為電路,每層metal layer間以via連接,最後有passivation layer保護.
習慣上把contact以前稱為FEOL (front end of line,前段),contact稱為
MEOL (middle end of line,中段),metal開始稱為BEOL (Back end of line,
後段).
其中,微影也常被稱為黃光,一部分原因是因為光阻中的PAG (photo-induced acid
generator,曝光後產生酸,接著採取連鎖反應.)怕白光,所以無塵室內微影區是以黃
光照明.黃光工程師的工作是以光阻曝光產生固定的pattern後,接著利用蝕刻將其
轉印在晶圓上(如oxide, poly, metal, via layer, layer前的名字代表將產生半導體內
的哪個單位).也有可能是光阻曝光後, 利用implant將ion植入silicon產生電性
(implant layer,其中包含: well, LDD, S/D, cell, I/O).與photo (黃光)合作關係
最密切的就是etch與implant.
(二) 黃光工作內容
(二-1)
參考書籍:
1. Sub-Half-Micron Lithography for ULSls by K.SUZUKI
2. Fundamental Principles of Optical Lithography: The
Science of Microfabrication by Mack
3. Advanced Processes for 193-nm Immersion Lithography
by Y. Wei and R. L. Brainard
4. Optical Lithography: Here is Why by B. J. Lin
5. Microlithography: Science and Technology by K. Suzuki and etl.
在介紹內容之前,要先解釋一下光罩的區別.依據製程與layout的差別,我們將光罩分
為Bright field Dark tone如Oxide, poly layer,與Dark field bright tone如
metal, via layer.簡單的想法就是,以oxide為例,我們要將大部分的光阻都曝開
才能往下etch製作STI,所以稱為bright field.對metal而言,我們是將少部分的光阻
曝開往下etch,接著填入metal,所以稱為dark field.了解這個差別,較容易進
一步了解各個layer所需要的pattern與解defect的recipe的調整.
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