ASML艾司摩爾的EUV機台成摩爾定律救星，台積電採用浸潤式ArF深紫外光（DUV）微影設備，讓台積電第一代7奈米製程出世，也藉此拉開與三星電子的差距⋯
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ASML 強在哪？其實，ASML 不僅寡佔了 #EUV 設備市場，也同時主導著 #浸潤式微影系統，這可說是 #DUV 設備市場中，價格偏高、獲利率最高的設備市場區塊。
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ASML表示不需美國批准 DUV微影機可賣給中國
ASML在沒有美國許可證的情況下，仍能從荷蘭出口DUV微影機至中國。至於更先進的EUV微影機則無法出口至中國，因為EUV微影機的相關技術或零件是從美國出口的，因此需要美國批准。
但是，DUV微影機是無法生產14nm或更小的晶圓。（準確地說，液體浸潤式（liquid immersion）DUV在多次曝光後是可以生產7nm晶圓的，但良率低且不穩定），要突破14nm就要靠EUV微影設備。....
