【石墨烯鍍層之製造方法】
#中心好技術
本技術提供一種不同以往CVD石墨烯製程，利用PVD複合方式不受現行專利限制，成功建立一種創新石墨烯材料製程。以物理蒸鍍(PVD)製程，以純石墨靶材將碳原子濺射於基板上，在配合離子源能量適當控制，在≦250℃製程溫度下，能長出數奈米厚度之薄石墨層。此薄石墨層後繼以電漿蝕刻方式，讓材料漸次薄化而達成石墨烯狀結構。以PVD複合方法 ≦250℃低溫製程，基板無耐溫限制、不用蝕刻屬環保製程，製備時間短具生產優勢。可衍生應用於LED散熱、積體電路、複合材料、氣體感測、透明導電電極、超高電容、鋰電池、太陽光電產業等方面皆有相當之應用潛力等綠色關聯產業產品之創新應用。
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