關於 曝光顯影英文 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 6 Photolithography

曝光 光阻變成交連(. 聚合物. •曝光光阻變成交連(cross-linked)聚合物. • 交連聚合物有高的化學蝕刻抵抗力. •未曝光部分在顯影溶劑中被分解.

#12. LITHOGRAPHY 微影製程 - YouTube

微影製程示範影片：晶圓清洗、光組塗佈、光罩對準、 曝光 、 顯影 國立高雄科技大學機電工程系- 微系統製造實驗室Dr. J.C. Yu.

#13. 半導體製程技術 - 聯合大學

與曝光源和顯影過程等特別製程相關. ▫. 光阻薄膜越薄，解析度越高. ▫. 對抗 ...

#14. 黃光微影(Photolithography) | Ansforce

... 其步驟與光罩的製作很類似，但是這裏使用「紫外光」而不是「電子束」，因為使用紫外光可以快速曝光大量進行圖形轉移，而使用電子束只能慢慢刻寫。

#15. 微影照像

元件上圖案. 圖案移轉. 反應離子蝕刻. 離子植入等. 光阻影像. 顯影. 光化學. 曝光後烘烤擴散. 晶圓反射薄膜效應. 微影工具解析度. 和像差. 寫光罩. （電子束或雷射）.

#16. 國立中興大學-光電半導體製程中心

中文名稱. 紅外線雙面對準曝光機. 英文名稱. OAI-500. 儀器經費來源. 購入日期 ... 軟烤(Soft Bake)、曝光(Exposure)、顯影(Development)和硬烤(Hard Bake)等步驟。

#17. 黃光微影製程技術

... 的特性: 照光之後可溶於顯影劑用於高解析度的製程. -負光阻的特性: 照光之後不溶於顯影劑適用於3µm以上的製程 ... 電子束曝光系統的優點就是可以直接生產所需的圖.

#18. 显影用英语怎么说_显影的英文 - 沪江

Film processor: Machine which automatically develops,fixes,washes and dries exposed film. 冲片机:自动把曝光后的菲林应显影、定影、水洗和干燥的 ...

#19. 曝光显影英文 - 百度一下

曝光显影 的英文- 曝光显影翻译- 曝光显影英语怎么说- 海词... · 海词 ; 曝光和显影理论,theory of exposure and development... · 词都 ; 显影效果的英文- 显影效果翻译- 显影 ...

#20. 提升太陽能電池模組封裝效率之研究Solar Modules Efficiency ...

英文 摘要. 2. 壹、 計畫緣起與目的. 3. 貳、 文獻回顧. 4. 參、 研究方法與實驗 ... 溶解於顯影劑，未曝光部分則被溶解掉時稱之為負光阻。 4. 軟烤(Soft bake).

#21. 曝光顯影蝕刻光刻 - 藥師+全台藥局、藥房、藥品資訊

光刻（英語：photolithography）是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形 ...。

#22. 黃光製程> 顯影液 - 日益和股份有限公司

以正型光阻(Positive tone) 為例，曝光區域是可以被顯影掉，非曝光區域則是做為Hard mask用。 根據光阻的不同，需要不同的光源(Light source), 曝光能量(Exposure dose)。

#23. 半導體微影製程疊對控制之研究The Study of Semiconductor ...

2.曝光(exposure):用曝光機或步進機將光罩上的線路圖曝照在光阻上。 3.顯影(developing):用顯影液(developer)將已曝光的光阻顯影成像。 除了此三大步驟 ...

#24. 科毅科技股份有限公司

除能提供專業的黃光設備(清洗、塗佈、曝光(光刻)、顯影、蝕刻機台、玻璃光罩設計… ... 光電與半導體設備─ 曝光機，塗佈機，光罩，平行光源，高靈敏CCD相機.

#25. 113_092-020DP-TW - 校友聯絡中心

本發明係一種高深寬比圖案轉移製作方法，利用結合壓印以及光罩曝光技術形成高深寬比之光阻圖案之轉移。以在微奈米光阻圖形轉移製程中節省顯影時間， ...

#26. 曝光顯影英文– 曝光顯影製程 - Nissinken

曝光顯影英文 – 曝光顯影製程. 奈米投影曝光顯影技術. 銳隆光電│加工服務介紹ITO FTO導電玻璃蝕刻依照客戶需求選定玻璃種類、蝕刻圖形尺寸核對，開立光罩進行曝光顯影 ...

#27. 黃光曝光英文

英文 名稱OAI-500 儀器經費來源購入日期2002-12-31 儀器位置黃光室儀器狀態正常使用中曝光：曝光之目的在使晶片表面所覆光阻吸收適當能量以進行光化轉換，如此顯影後光 ...

#28. 負型光阻英文 - ZQILZ

PDF 檔案. 光阻感光材料暫時塗佈在晶圓上將設計的圖案經由曝光轉印到晶圓表面和照相機的底片的感光材料相似正負光阻的比較負光阻曝光後不可溶解顯影之後，未曝光的部分 ...

#29. 微影製程 - 國立高雄科技大學第一校區

微機電系統導論─微影製程3. NKFUST. MEMS Lab. 5. 無塵室的典型配置. ▫ 北區微機電中心平面圖. ▫ 黃光區class 1000. >光阻塗佈、光罩對準. 曝光、顯影.

#30. 顯影- 教育百科| 教育雲線上字典

英文 ：. Developing. 作者：. 朱則剛. 日期：. 1995年12月. 出處：. 圖書館學與資訊科學大辭典. 辭書內容. 名詞解釋： 顯影是將軟片或相紙上曝光的影像，用顯影藥水 ...

#31. 關於黃光及其100個疑問，這篇文章已全面解答 - 每日頭條

1、PHOTO 流程? 答：上光阻→曝光→顯影→顯影后檢查→CD量測→Overlay量測. 2、何為光阻？其功能 ...

#32. 攝影用術語- 中英文對照表 - Facebook

攝影用術語- 中英文對照表 ... automatic exposure 自動曝光. to frame 取景. framing 取景 ... 顯影. darkroom 暗室. to develop 顯影. developer 顯影劑. bath 水洗.

#33. PCB產業應用及製造流程 - 晟鈦股份有限公司

印刷電路板，又稱為印製電路板，印刷線路板，常使用英文縮寫是PCB（Printed ... 工程→ 裁板→ 鑽孔→ PTH → 一次銅→ 壓膜→ 曝光顯影→ 二次銅→ 錫鉛→ 去膜→ 蝕 ...

#34. 銳隆光電有限公司- 矽晶圓曝光顯影蝕刻加工 - 台灣實驗室網

企業名稱=銳隆光電有限公司,產品中文名稱=矽晶圓曝光顯影蝕刻加工:曝光Exposure.顯影Development.蝕刻Etching,產品英文名稱=矽晶圓曝光顯影蝕刻加工:曝光Exposure.

#35. 半導體解密：ASML光刻機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買到 ...

光刻機（英文「Mask Aligner」) ，是製造微機電、光電、二極體大規模積體 ... 一般的光刻流程包括底膜處理、塗膠、前烘、對準曝光、顯影、刻蝕，去膠 ...

#36. 行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 - IR

中英文摘要… ... 也須變大並配合位移的製程，達到大尺寸面板的曝光加工。 ... 散開的現象，且未吸收的光能亦可能轉為熱，使光阻發生熱熔的反應，故曝光顯影後的圖形.

#37. 錦碁科技有限公司: 首頁

如同錦碁科技的英文名稱"Reliable-Mate Technology"是顧客值得信賴的好夥伴。 願景. 初期目標：為目前設備待改善的客戶提供客製化的維修改造服務。

#38. 全方位微影技術介紹 - ASML

我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。

#39. 半導體微影奈米尺寸的穩定性控制__臺灣博碩士論文知識加值系統

曝光 能量之所以能影響關鍵尺寸的原因是光阻(Photo-Resist)吸收到比較高的能量時與顯影液接觸會產生比較劇烈的中和(Neutralized)反應，所以越高曝光能量時線寬會越小， ...

#40. 發明專利說明書公告本

代表人:(中文/英文)張忠謀/CHANG CHUNGMOU ... 牲特徵之方法,更包含曝光一基板上之光阻層,以及顯 ... 程,包含曝光及顯影,被轉移至一覆蓋於半導體晶圓上.

#41. 第三章研究設計與實驗方法 - 國立臺灣師範大學

敏感，一旦曝光則會引起其分子結構和化學性質的改變，遭受曝光區域的光阻 ... 應，使得曝光區與非曝光區對於顯影劑溶解速率差加大，達到圖形轉移之目的. 【50-51】。

#42. 印刷電路板無光罩數位成像資料處理技術

做好底片之後就. 是貼在塗佈光阻(photoresist)的銅箔基板上進. 行曝光，再利用顯影、蝕刻之後將線路圖轉移. 到銅層上(見圖1)。 圖1 PCB影像轉移過程. Page 3. 116 ICT ...

#43. 極紫外光EUV微影是什麼？影片直擊台積電拚5奈米的關鍵技術 ...

微影製程即是：用一台微影設備（Lithography），也稱作曝光機，也可以算是一種掃描儀器，將光透過光罩（Mask或Reticle），並利用ASML微影設備的光學 ...

#44. 負型光阻英文 - Mycork

光阻劑(Photoresist, PR) 負光阻經曝光後變不可溶經顯影製程，未曝光部分溶解較便宜正光阻經曝光後變可溶經顯影製程，曝光部分溶解解析度較佳光敏感物質暫時塗佈在晶圓 ...

#45. 晶圓級封裝凸塊介電層製程技術之改進 - 國立高雄應用科技大學

製程包含從PI 塗佈（PI Coating）、曝光（Exposure）、顯影（Developer）、固化（Curing）、電漿餘膜處. 理（Plasma Descum treatment）。等主要站別，以下則對各製程 ...

#46. 光刻（英語：photolithography）工藝是半導體器件 - 中文百科 ...

這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）後可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射（曝光）。然後 ...

#47. 光罩:簡介,結構,光刻,積體電路 - 中文百科全書

光罩（英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成 ... 被曝光的區域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光後的底片的光 ...

#48. 光罩(英文:Reticle, Mask):在製作IC的過程中 - 華人百科

光罩(英文:Reticle, Mask):在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖 ... 的電路進行光蝕刻，其生產加工工序為:曝光，顯影，去感光膠，最後套用于光蝕刻。

#49. 黄光制程简介

光阻是一种化学材料，在PHOTO process 中经过曝光. 和显影两个步骤将光罩(Mask)上的图形转移到光阻. 上， 在下一站etch或implant时作为保护层将不需要.

#50. 曝光機英文 - Smuzp

曝光 機種類曝光機精采文章曝光機,曝光機原理,曝光機英文[網路當紅],光阻塗佈機, 顯影機, 光罩(4”~32”)製作,設有機械組裝廠房生產線,專精於光罩對準曝光機之設計製造。

#51. 金線路重佈 - Chipbond Website

所謂的晶圓級金屬佈線製程，是先在IC上塗佈一層保護層，再以曝光顯影的方式定義新的導線圖案，接下來再利用電鍍和蝕刻技術製作新的金屬導線，以連結原鋁墊(Al pad)和新 ...

#52. 360°科技－浸潤式微影 - 電子時報

過去乾式曝光顯影是在無塵室中，以空氣為媒介進行，透過光罩在晶圓上顯影；而浸潤式微影(immersion lithography)則是以水為透鏡，在晶圓與光源間注入 ...

#53. 積體電路製作流程

化學顯影. ‧ 蝕刻技術. ‧ 光阻去除 ... 用電子束曝光. 設備製作光罩 ... 曝光. 顯影. 離子注入. 氧化. 薄膜形成. Oxidation. Etching. Implantation.

#54. 多灰階製程光罩

Gray-tone mask是製作出曝光機解析度以下的微縫，再藉由此微縫部位遮住一部份的 ... 及「未曝光部分」之3種的曝光層次，故在顯影後能夠形成2種厚度的光阻（感光劑。

#55. 主流触摸屏制作工艺：黄光制程问题全解析 - 行家说

答：上光阻→曝光→显影→显影后检查→CD量测→Overlay量测. 何为光阻？其功能为何？ ... 光刻技术的英文是什幺. 答：Photo Lithography.

#56. 曼雷的實物投影與中途曝光 - 高雄市立美術館

曼雷的實物投影與中途曝光. 文／章光和（世新大學圖文傳播暨 ... 英文裡ray就是光. 芒、光線的意思，但是又是曼 ... 一次暗房洗相中，一張沒有曝光的相紙掉到顯影槽.

#57. 光罩製作流程

繁體中文 · 簡體中文 · 英文. 光罩製作流程. 光罩的製造為分為前後段流程。 NoImage. 前段製程- 其中包含曝光、顯影、蝕刻與去光阻. NoImage ...

#58. 多重曝光

多重曝光（英語：multiple exposure）是攝影中一種採用兩次或者更多次獨立曝光，然後將它們重疊起來，組成單一照片的技術方法。由於其中各次曝光的參數不同， ...

#59. 多重曝光：Multi-Exposure | 攝影專有名詞資料庫

(取自本站單元：映像咖啡顯影微教程No.2). 攝影 ...

#60. 顯影

光刻（英語：photolithography）是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形轉移到 ...

#61. 光罩製程英文

PDF 檔案. 光罩/倍縮光罩(Mask) 曝光Exposure 顯影Development 紫外光負光阻基片正光阻基片光阻微影製程(Lithography) 基片(Substrate) 基片光阻(PR, Photoresist) 光 ...

#62. 雙面對準曝光機 - 元智大學Yuan Ze University - 研發處

英文 名稱, Double Side Mask Aligner. 功能說明, 光罩與晶圓對準曝光顯影. 廠牌型號, M&R Nano Technology Co.AG350-4N-D-V-S-H. 儀器規格.

#63. 光阻英文

“光阻系統”英文翻譯photoresist system; system photoresist; system, ... 正光阻: 光阻本身難溶于顯影液，曝光后解離成小分子，形成容易溶于顯影液的結構。. 2.

#64. 找光刻英文相關社群貼文資訊

光刻- 维基百科，自由的百科全书。 微影製程（英語：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光阻层上刻画几何图形结构，然后 ...

#65. 台積電為何這麼強：半導體的計算光刻及佈局優化 - momo購物網

在0.35μm 技術節點之前，光刻製程可以簡單地分解為塗膠、曝光和顯影（設計 ... 舉例來說，出現頻率很高的詞「佈局」，英文是"layout"，我們定義為物理 ...

#66. 黃光曝光英文 - Liqza

光刻（英語：photolithography）是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形轉移到 ...

#67. 光阻劑英文 - Izmor

“正型光阻劑正性抗蝕劑” 英文翻譯： positive acting resist “光阻” 英文翻譯： ... 3 5 光阻劑(Photoresist, PR)負光阻經曝光後變不可溶經顯影製程，未曝光部分溶解較 ...

#68. 中途曝光Solarization - 映像咖啡顯影

Solarization 英文的原意是日曬，而中途曝光的發現是來自傳統攝影暗房操作上 ... 在經過顯影的藥水程序後，再次讓感光材料又再度曝光與顯影後才定影。

#69. 正型光阻

光阻劑(Photoresist)是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，根據曝光顯影後的變化，分為正型(Positive type)光阻劑和負型(Negative type)光阻劑， ...

#70. 無光罩數位曝光技術與應用 - 材料世界網

無光罩曝光技術，顧名思義即不使用光罩(Mask)來進行曝光使光阻劑產生圖案化 ... 會使用到光阻劑來進行曝光顯影之製程皆能夠導入無光罩曝光技術應用。

#71. Ledex-2500自動對位UV-LED平行光曝光機

自動對位UV-LED平行光曝光機 ... 操作界面, 中文/英文兩種語言+ 觸控螢幕 ... 顯影後線路解析度(高解析乾膜), 62.5μm/62.5μm ; 50μm/50μm(指定乾膜).

#72. 負光阻英文 - Cpanly

正光阻本身難溶於顯影液，例句，但受光照射產生反應後，MEMS製程所使用的光阻劑，當負型光阻曝光能量越小，離型劑，負光阻抗蝕劑英文怎麼說，罩遮（（mask）） 塗敷顯影劑.

#73. 黃光區英文 - Porta

English 黃光區首頁/ 集團事業體/ 太陽能/ 太陽能晶片/ 黃光區黃光區介紹潔淨度Class 1000 之黃光室，具備光阻塗佈、對準曝光、顯影、烤箱、Spin dryer、Hot N2 dryer ...

#74. 邏輯製程- 台灣積體電路製造股份有限公司

台積公司於2008年領先專業積體電路製造服務領域，採用40奈米製程技術為多家客戶量產晶片。此一技術結合了193奈米浸潤式曝光顯影製程以及...

#75. 「曝光顯影」找工作職缺｜台中市－2022年5月｜104人力銀行

... 股份有限公司】、紅外線熱顯影檢測拍攝人員【金鴻興科技工程有限公司】、健檢中心-健 ... 及專業求職服務，更多「曝光顯影」找工作職缺｜台中市請上104人力銀行搜尋。

#76. 顯影劑的副作用與預防作者：臺大醫院藥劑部施維宜藥師專題 ...

目前使用顯影劑的影像檢查有X光特殊攝影、電腦斷層掃描、血管攝影、超音波影像、磁振造影。 ... 其中含碘顯影劑引起的不良反應可分因注射引起（如血管損傷、血栓）， ...

#77. 古典顯影/ Historical Process

古典顯影是指非銀鹽(None-silver) 的古老照片印製方法，盛行於19 至20 世紀初期，並使用紫外線UV 進行曝光：攝影師必須親手調製並塗抹顯影劑、挑選曝光的紙張、讀著 ...

#78. 精密化學品 - 三福化工

利用鹼性顯影液將光阻(PR, Photo Resist)經曝光後形成的有機酸中和、剝落，留下未反應的光阻圖案。 TMAH (氫氧化四甲基銨) · NaOH (氫氧化鈉) · KOH (氫氧化鉀) ...

#79. 光阻半導體英文弘塑科技股份有限公司 - Scsc

軟烤：或稱曝光前烘烤，探針臺， PCB)，譯成英文則為Lithography ... PDF 檔案光阻劑（photoresist） • 對顯影劑溶解度會隨曝光程度改變• 不會被蝕刻劑或蝕刻製程侵蝕• ...

#80. 負光阻英文 - Xvux

當光照到正光阻﹐會讓光阻材料不容易溶於顯影劑﹐相反地﹐負光阻則容易溶於顯影劑中。 回答數: 1 · PDF 檔案. 光阻感光材料暫時塗佈在晶圓上將設計的圖案經由曝光轉印 ...

#81. 2. 有關半導體光學微影製程步驟：A 光阻曝光 - 阿摩線上測驗

有關半導體光學微影製程步驟：A 光阻曝光、B光阻塗佈、C光阻顯影，下列製程順序何者正確？ (A) BCA (B) ABC (C) CAB (D) BAC. 編輯私有筆記及自訂標籤.

#82. 黃光製程英文電子廠常用的英文單字 - Jnkz

服務：黃光微影製程(HMDS塗佈，光阻塗佈，曝光，顯影，4吋以下晶圓)，光學顯微檢測(可拍照，最高100X物鏡，附量測刻度尺)，金屬/ 氧化膜之化學溼蝕刻，爐管前化學 ...

#83. 曝光機種類 - Mcheo

透過靈活控制3種波長的光源，能夠更廣域覆蓋曝光時所需之波段，大幅度擴大了適用光阻劑的種類。 曝光機種類. 曝光：以曝光機搭配光罩使用顯影：曝後烤、顯影、硬烤乾式蝕刻 ...

#84. 負型光阻英文光阻劑 - Sed

正光阻本身難溶於顯影液，例句，但受光照射產生反應後，MEMS製程所使用的光阻劑，當負型光阻曝光能量越小，離型劑，負光阻抗蝕劑英文怎麼說，罩遮（（mask）） 塗敷 ...

#85. 曝光機

全球半數EUV 光刻機都在臺積電手上，圖片，曝光機的英語翻譯，英文解釋例句和… ... 在曝光顯影時，EUV 曝光機的吞吐量相對較低，以期在半導體製造產業優勢基礎下帶動 ...

#86. 曝光显影英文 - 愿景知识站

曝光显影英文. by 洗澡英文 at 2022-05-16 20:48:40. 2、曝光就是光圈、快门和感光度ISO的组合。其中光圈和速度联合决定进光量，ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。3、 ...

#87. 負光阻原理

負光阻經曝光後變不可溶經顯影製程，未曝光部分溶解較便宜正光阻經曝光後變可溶經 ... 負型光阻英文光阻劑; 北美智權股份有限公司; 【光刻百科】負顯影Negative Tone ...

#88. 半導體黃光英文 - Motics

其中，在黃光區中，因為此區主要進行照相顯影縮小. PDF 檔案 ... 黃光工程師的工作是以光阻曝光產生固定的pattern後,接著利用蝕刻將其. 最密切的就是.

#89. 首頁｜蘋果新聞網｜蘋果日報

確診數要暴衝了！第一線醫師示警「黑數即將曝光」：每天再加3萬都不過分 ... 蘋果民調｜蔡英文擔任總統滿6年總體施政您滿意嗎？

#90. 加州槍擊台裔教會嫌犯周文偉身份曝光是統促黨員、當過預官

《洛杉磯時報》、《路透》、《美聯社》5月16日報導，加州警方週一表示，中國男性移民周文偉（David Wenwei Chou，譯音）被控在加州台裔美籍教堂聚會上開槍 ...

#91. 晶圓邊緣光阻殘留缺陷改善

本研究針對化學放大型光阻，曝光後顯影製程發生晶圓邊緣產生光阻殘留而做實驗，然而化學放大型光阻則需要曝光後加熱的步驟（通常是以90∼140oC加熱一至二分鐘），才能 ...

#92. Ultratech 曝光機

曝光 (光刻) 无光罩雷射直写曝光机光罩显影蚀刻机清洗真空干燥机(VCD) ... 光刻机（英文“Mask Aligner”) ，又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻 ...

#93. photolithography中文 - Aypsaf

該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，所使用的方法稱為「黃光微 ... photolithography的中文翻譯，搭配中英文翻譯字幕與英漢字典，但是這裏使用「紫外 ...

#94. 電子材料 - 第 25 頁 - Google 圖書結果

光阻材料,用以塗敷於矽晶圓或半製品上,而從經過曝光( exposure )、顯影( ... 英文叫 mask ,也有以縮小 2.5 : 1,5 : 1 甚或 10 : 1 成像的,英文叫 reticle (中文也可譯 ...

#95. 印刷之术 - Google 圖書結果

显影 是把曝光后的丝网架浸入水中,喷射冲洗丝网,将未受光的胶膜冲刷掉, ... 弹指如飞让思维跟不上——汉字录入英文键盘录入有着悠久的历史,但是中文输入法的发展难度很大, ...

#96. 摄影基础（第二版） - Google 圖書結果

ASA制是美国用于感光度的标记法,ASA是“美国标准协会”的英文缩写,如 ASA100°, ... 一般情况下可用调整曝光量、改变显影条件(主要指显影时间、温度)等来控制反差.

#97. 新聞傳播學名詞 - 第 327 頁 - Google 圖書結果

英文 中文 overdeveloped 顯影過度 overdevelopment 顯影過度 overdose 過量 over-dry 乾燥過度 overexposure 曝光過度 overlap 疊影 overlapping 重疊動作 overlapping ...